儀器簡介：

微區(qū)X射線熒光光譜分析技術(shù)是對(duì)不均勻樣品、不規(guī)則樣品、甚至小件樣品和包裹物進(jìn)行高靈敏度的、非破壞性的元素分析的方法。采用多導(dǎo)毛細(xì)管聚焦鏡將激發(fā)光聚焦到非常小的區(qū)域，以獲得的空間分辨率，進(jìn)行快速分析。任何類型的樣品都可以通過簡單的樣品制備甚至不制備直接進(jìn)行分析。

    技術(shù)參數(shù)：

    技術(shù)參數(shù)
    樣品類型     固體、顆粒、液體、多層膜
    樣品室尺寸  W×D×H：600×350×260mm
    樣品臺(tái)尺寸   W×D：330×170mm
    測量氣氛  大氣/真空，在100秒內(nèi)準(zhǔn)備就緒
    樣品移動(dòng)    大移動(dòng)范圍 W×D×H：270×240×120mm
    移動(dòng)速度    渦輪增速樣品臺(tái)大移動(dòng)速度可達(dá)100mm/s
    激發(fā)                配多導(dǎo)毛細(xì)管聚焦鏡的高強(qiáng)度X射線光管
                            選項(xiàng)：可同時(shí)使用不同靶材的雙光管
    X射線光管參數(shù)
    靶材       Rh，可選靶材：Mo，Ag，Cu，W
    電壓       50kV,800μA
    光斑大小   小于30μm（對(duì)于Mo-K）
    濾光片   根據(jù)用戶要求，多6塊濾光片
    探測器   XFlash?硅漂移探測器
                      選項(xiàng)：可多同時(shí)使用3個(gè)探測器
    探測器參數(shù)
    有效面積   10mm2，選項(xiàng)：30mm2
    能量分辨率    計(jì)數(shù)率250,000cps時(shí)分別優(yōu)于125eV、135eV

    儀器控制    先進(jìn)的PC機(jī)，Windows XP或Vista操作系統(tǒng)
    儀器控制功能     光管參數(shù)、濾光片、光學(xué)顯微鏡、樣品照明和樣品定位的控制
    光譜評(píng)估       譜峰識(shí)別、人工和自動(dòng)背景校正、峰面積計(jì)算、對(duì)于塊狀樣品和多層膜樣品基于標(biāo)樣和無標(biāo)樣模式的定量分析
    分布分析     “飛行中”測量模式，HyperMap軟件功能
    結(jié)果顯示     定量結(jié)果、統(tǒng)計(jì)計(jì)算、元素分布（線掃描、面分布）
    電源要求     110-240V（1P），50/60Hz
    尺寸（寬×深×高） 815×680×580mm，130kg
    質(zhì)量和   DIN EN ISO 9001:2000認(rèn)證, CE認(rèn)證
                               完全輻射防護(hù)系統(tǒng)；輻射劑量＜1μSv/h

    主要特點(diǎn)：

M4     TORNADO采用了全新的技術(shù)，為各種用戶提供了佳的分析性能和非常方便的操控性。

采用多導(dǎo)毛細(xì)管聚焦鏡，照射光斑小，空間分辨率高。

渦輪增速X-Y-Z樣品臺(tái)，借助放大倍數(shù)可變的攝像系統(tǒng)獲得的樣品影像，可在“飛行中”進(jìn)行元素分布分析。

    高強(qiáng)度的X射線光管與多導(dǎo)毛細(xì)管聚焦鏡相結(jié)合，確保在非常小的照射區(qū)域內(nèi)獲得非常高的激發(fā)強(qiáng)度。采用濾光片和可以同時(shí)使用的配有不同靶材的雙光管，可以根據(jù)不同的分析要求，優(yōu)化激發(fā)光譜。

使用XFlash?探測器速地獲取樣品圖譜，另外，使用多個(gè)探測器可以進(jìn)一步提高測量速度。

采用無標(biāo)樣分析法定量分析塊狀樣品，分析多層膜樣品。

可抽真空的樣品室配有自動(dòng)門，大尺寸的樣品室可以放置各種尺寸的樣品。通過兩個(gè)放大倍數(shù)可變的攝像系統(tǒng)觀察樣品（整體觀察和分析區(qū)域的細(xì)致觀察），便捷進(jìn)樣功能和自動(dòng)對(duì)焦功能可以進(jìn)行快速而的定位。通過用戶編輯的X-Y-Z樣品臺(tái)運(yùn)行程序可實(shí)現(xiàn)重復(fù)測量。